PVD又称物理气相沉积,用于高效异质结(HJT)太阳电池硅片的正反面溅镀 ITO透明电薄膜。业内最大跨度的量产型磁控溅射设备,可在一次工艺过程实现正反面的镀膜。自动上下料系统具备上料自动外观(破片、缺口、崩边)检测及下料PL检测功能,产能达,稳定性好。